Sean Hong 10 發表於 August 9, 2011 檢舉 Share 發表於 August 9, 2011 最近在學校做實驗想利用「蝕刻」基材的方式將沉積物嵌合於其中在文獻中看到可利用氫氟酸(hydrofluoric acid,HF)蝕刻TiN基材表面但我現在想在銅片上進行蝕刻不曉得有何方法?或者如果要蝕刻ITO導電玻璃有哪些可行的方式?是否要擔心進行蝕刻的溶液會破壞其導電層呢? 鏈接文章 分享到其他網站
actino 10 發表於 August 9, 2011 檢舉 Share 發表於 August 9, 2011 一般會用"電漿蝕刻"來蝕刻銅而ITO的部份http://ir.lib.stut.edu.tw/bitstream/987654321/7316/1/2005c2_BP-01_ITO.pdf這篇文章可以參考看看裡面有提到四種常種的氧化銦蝕刻液 鏈接文章 分享到其他網站
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